年単位の研究成果
フィンガープリント Hiroshi Ishikawaが有効な場合、研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この人物の業績からのものです。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。
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研究成果
Regional Bandgap Tailoring of 1550 nm-Band InAs Quantum Dot Intermixing by Controlling Ion Implantation Depth
Isawa, S., Akashi, Y., Morita, R., Kaneko, R., Okada, H., Matsumoto, A., Akahane, K., Matsushima, Y., Ishikawa, H. & Utaka, K., 2020 2 1, ： : Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 217, 3, 1900521.研究成果: Article
The 1200 nm-Band InAs/GaAs Quantum Dot Intermixing by Dry Etching and Ion Implantation
Hiraishi, Y., Shirai, T., Kwoen, J., Ito, T., Matsushima, Y., Ishikawa, H., Arakawa, Y. & Utaka, K., 2020 5 1, ： : Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 217, 10, 1900851.研究成果: Article
Compact and High Sensitive Swgms Bragg Grating on Soi Platform for Refractive Index Sensing
Heinsalu, S., Matsushima, Y., Ishikawa, H. & Utaka, K., 2019 11, MOC 2019 - 24th Microoptics Conference. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., p. 148-149 2 p. 8982828. (MOC 2019 - 24th Microoptics Conference).研究成果: Conference contribution
Demonstration of All-Optical Logic Gate Device Using MQW-SOA and 10 Gbps XNOR Operation
Akashi, Y., Matsui, S., Isawa, S., Matsushita, A., Matsumoto, A., Matsushima, Y., Ishikawa, H. & Utaka, K., 2019 1 9, ： : Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science. 216, 1, 1800529.研究成果: Article
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引用
（Scopus）
InAs/GaAs Quantum Dot Intermixing by Dry Etching and Ion Implantation
Hiraishi, Y., Shirai, T., Kwoen, J., Matushima, Y., Ishikawa, H., Arakawa, Y. & Utaka, K., 2019 5, 2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 8819072. (2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings).研究成果: Conference contribution