10-nm-wire fabrication in GaAs/AlGaAs MQWs by Cl2 reactive ion beam etching using SiO2 sidewall masks

H. Arimoto*, H. Kitada, Y. Sugiyama, A. Tackeuchi, A. Endo, S. Muto

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研究成果: Article査読

フィンガープリント

「10-nm-wire fabrication in GaAs/AlGaAs MQWs by Cl<sub>2</sub> reactive ion beam etching using SiO<sub>2</sub> sidewall masks」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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