A novel process for fabrication of gated silicon field emitter array taking advantage of ion bombardment retarded etching

Takashi Tanii*, Satoru Fujita, Yoshiteru Numao, Iwao Matsuya, Mitsuaki Sakairi, Meishoku Masahara, Iwao Ohdomari

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フィンガープリント

「A novel process for fabrication of gated silicon field emitter array taking advantage of ion bombardment retarded etching」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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