An optical grating filter dry-etched on a LiNbO3 substrate

Satoshi Shinada*, Tetsuya Kawanishi, Takahide Sakamoto, Masayuki Izutsu

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抄録

We fabricated an etched grating filter on a Ti-diffused waveguide in LiNbO3 using inductively coupled plasma etching with C 4F8/Ar as an etching gas, which has an etching rate of 85.1 nm/min. The etched grating filter had a reflectivity of 35% and a bandwidth of 0.02 nm. Maximum reflectivity was obtained when the electric field of an incident beam was perpendicular to the grating.

本文言語English
ページ(範囲)347-352
ページ数6
ジャーナルieice electronics express
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DOI
出版ステータスPublished - 2006 7 25
外部発表はい

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  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「An optical grating filter dry-etched on a LiNbO<sub>3</sub> substrate」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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