Analysis by surface-sensitive second harmonic generation of Si(111)7 × 7 exposed to high-purity ozone jet for oxide film formation

Ken Nakamura*, Akira Kurokawa, Shingo Ichimura

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フィンガープリント

「Analysis by surface-sensitive second harmonic generation of Si(111)7 × 7 exposed to high-purity ozone jet for oxide film formation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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