Analysis of electron beam sensitivity of self-assem bled monolayer resist depending on terminal group

K. Kato*, T. Miyake, Y. Beppu, T. Tanii, I. Ohdomari

*この研究の対応する著者

研究成果

本文言語English
ホスト出版物のタイトルDigest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2007; 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC
ページ60-61
ページ数2
DOI
出版ステータスPublished - 2007 12 1
イベントs20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007 - Kyoto, Japan
継続期間: 2007 11 52007 11 8

出版物シリーズ

名前Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2007; 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC

Other

Others20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007
国/地域Japan
CityKyoto
Period07/11/507/11/8

ASJC Scopus subject areas

  • ハードウェアとアーキテクチャ
  • 電子工学および電気工学

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