Annealing behavior of spin density in UHV evaporated amorphous silicon

Takao Yonehara*, Toshio Saitoh, Hiroshi Kawarada, Tohru Hirata, Masakazu Kakumu, Iwao Ohdomari

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    研究成果: Article査読

    4 被引用数 (Scopus)

    抄録

    The ESR of amorphous silicon films evaporated in UHV has been measured at room temperature. Up to 900°C the annealing behavior of the spin density in the amorphous silicon films is quite different from that of films deposited in conventional HV.

    本文言語English
    ページ(範囲)192-194
    ページ数3
    ジャーナル"Physics Letters, Section A: General, Atomic and Solid State Physics"
    78
    2
    DOI
    出版ステータスPublished - 1980

    ASJC Scopus subject areas

    • 物理学および天文学(全般)

    フィンガープリント

    「Annealing behavior of spin density in UHV evaporated amorphous silicon」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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