Application of high purity ozone beam in the formation and characterization of SiO2 and other oxide thin films

S. Ichimura*, H. Nonaka, A. Kurokawa, K. Nakamura

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フィンガープリント

「Application of high purity ozone beam in the formation and characterization of SiO2 and other oxide thin films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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