Application of metal cluster complex ion beam for low damage sputtering

Toshiyuki Fujimoto*, Takeshi Mizota, Hidehiko Nonaka, Akira Kurokawa, Shingo Ichimura

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

15 被引用数 (Scopus)

抄録

Metal cluster complexes, including the colloidal metal cluster, were applied to establish the low damage sputtering method. Electro-spray-like ionization using an ink-jet nozzle has the potential to produce a cluster ion beam. A colloidal Au cluster of size 5 nm made a large crater-like hole at the carbon sheet.

本文言語English
ページ(範囲)164-166
ページ数3
ジャーナルSurface and Interface Analysis
37
2
DOI
出版ステータスPublished - 2005 2月
外部発表はい

ASJC Scopus subject areas

  • 化学 (全般)
  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 材料化学

フィンガープリント

「Application of metal cluster complex ion beam for low damage sputtering」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル