Behavior of ion-implanted As atoms in Si during molybdenum disilicide formation

Iwao Ohdomari*, Toyohiro Chikyow, Hiroshi Kawarada, Kazuo Konuma, Masakazu Kakumu, Kazuhiko Hashimoto, Itsuro Kimura, Kenji Yoneda

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フィンガープリント

「Behavior of ion-implanted As atoms in Si during molybdenum disilicide formation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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