CD SEM calibration to TEM for accurate metrology of FINs in MuGFET devices

G. F. Lorusso*, N. Collaert, R. Rooyackers, M. Ercken, I. Pollentier, S. Cheng, B. Degroote, M. Jurczak, S. Biesemans, O. Richard, H. Bender, A. Azordegan, R. Kuppa, S. Shirke, J. Prochazka, Timothy Edward Long

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference article査読

抄録

We describe a procedure to calibrate CDSEM to TEM for accuracy. This goal is achieved by using 4 CD reference standards in the range 10-70nm. After calibration, the CD SEM demonstrated sensitivity to process variation down to 10nm. The accuracy of the CD SEM measurements on fins of MuGFET devices was confirmed by TEM analysis.

本文言語English
論文番号PE223
ページ(範囲)169-172
ページ数4
ジャーナルIEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings
出版ステータスPublished - 2005 12 15
外部発表はい
イベントIEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, Conference Proceedings - San Jose, CA, United States
継続期間: 2005 9 132005 9 15

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 産業および生産工学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「CD SEM calibration to TEM for accurate metrology of FINs in MuGFET devices」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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