Characterization of ClOx radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass

Hiroyuki Nishikawa*, Ryuta Nakamura, Yoshimichi Ohki, Kaya Nagasawa, Yoshimasa Hama

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

15 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Characterization of ClOx radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy