Compound nanoimprint processes and their applications for devices

Jun Mizuno*, Hidetoshi Shinohara

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

抄録

In this paper, fabrication methods of metal patterns using ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL) and electrodeposition are demonstrated. Since the photocurable resin patterned by UV-NIL was directly used for electrodeposition mask, the simple and high-throughput fabrication process was realized. Several examples of functional device using these methods are described.

本文言語English
ページ(範囲)343-346
ページ数4
ジャーナルieej transactions on sensors and micromachines
130
8
DOI
出版ステータスPublished - 2010

ASJC Scopus subject areas

  • 機械工学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Compound nanoimprint processes and their applications for devices」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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