Cu-ion diffusivity in SiO2-Ta2O5 solid electrolyte and its impact on the yield of resistance switching after BEOL processes

N. Banno*, T. Sakamoto, H. Hada, N. Kasai, N. Iguchi, H. Imai, S. Fujieda, T. Ichihashi, T. Hasegawa, M. Aono

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研究成果: Conference contribution

8 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Cu-ion diffusivity in SiO2-Ta2O5 solid electrolyte and its impact on the yield of resistance switching after BEOL processes」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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