Cu/CaF2/diamond metal-insulator-semiconductor field-effect transistor utilizing self-aligned gate fabrication process

Hitoshi Umezawa, Hirotada Taniuchi, Takuya Arima, Minoru Tachiki, Kazuo Tsugawa, Sadanori Yamanaka, Daisuke Takeuchi, Hideyo Okushi, Hiroshi Kawarada

研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Cu/CaF2/diamond metal-insulator-semiconductor field-effect transistor utilizing self-aligned gate fabrication process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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