Deposition mechanism of a-Si: H films fabricated by coaxial-line-type microwave plasma chemical vapour deposition

Isamu Kato*, Kazuhisa Hatanaka, Tetsuya Tatsumi

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フィンガープリント

「Deposition mechanism of a-Si: H films fabricated by coaxial-line-type microwave plasma chemical vapour deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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