Deposition of hydrogenated amorphous silicon films using a microwave plasma chemical vapor deposition method with DC bias

Kiyotaka Kato, Isamu Kato

研究成果: Article

3 引用 (Scopus)

フィンガープリント Deposition of hydrogenated amorphous silicon films using a microwave plasma chemical vapor deposition method with DC bias' の研究トピックを掘り下げます。これらはともに一意のフィンガープリントを構成します。

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