Dielectric breakdown in F-doped SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Hiromitsu Kato, Shingo Sakai, Akihiro Takami, Yoshimichi Ohki, Keisuke Ishii

研究成果: Paper査読

フィンガープリント

「Dielectric breakdown in F-doped SiO<sub>2</sub> films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science