Effect of Ar+ ion bombardment during hydrogenated amorphous silicon film growth in plasma chemical vapor deposition system

Isamu Kato, Yuuki Nakano, Nobuhiko Yamaguchi

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フィンガープリント

「Effect of Ar+ ion bombardment during hydrogenated amorphous silicon film growth in plasma chemical vapor deposition system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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