Effect of fluorine-doping on the dielectric strength of thin SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition

K. Ishii*, A. Takami, Y. Ohki

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference article査読

フィンガープリント

「Effect of fluorine-doping on the dielectric strength of thin SiO<sub>2</sub> films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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