Effect of HF treatment on photoluminescence characteristics of a-Si: H nanoball films

Yosuke Motoyama*, Fumiaki Suzuki, Isamu Kato

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

1 被引用数 (Scopus)

抄録

We perform HF treatment to a-Si:H nanoball films fabricated by the double-tubed coaxial-line-type microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) system. By HF treatment, Photoluminescence wavelength shifted from 760 nm to 590 nm. We have determined the diameter of Si nanocrystals by X-ray diffraction (XRD) and transmission electron microscopy (TEM). It is found that the diameter of Si nanocrystals decreases from 5 nm to 3.7 nm, by HF treatment.

本文言語English
ページ(範囲)7542-7543
ページ数2
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers
43
11 A
DOI
出版ステータスPublished - 2004 11

ASJC Scopus subject areas

  • 物理学および天文学(その他)

フィンガープリント

「Effect of HF treatment on photoluminescence characteristics of a-Si: H nanoball films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル