Effect of multiple-step annealing on the formation of semiconducting β-FeSi2 and metallic α-Fe2Si5 on Si (100) by ion beam synthesis

Hiroshi Katsumata, Yunosuke Makita*, Naoto Kobayashi, Hajime Shibata, Masataka Hasegawa, Shin Ichiro Uekusa

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研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Effect of multiple-step annealing on the formation of semiconducting β-FeSi<sub>2</sub> and metallic α-Fe<sub>2</sub>Si<sub>5</sub> on Si (100) by ion beam synthesis」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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