Effects of ion implantation and thermal annealing on the photoluminescence in amorphous silicon nitride films

K. S. Seol*, T. Futami, T. Watanabe, Y. Ohki, M. Takiyama

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研究成果: Paper査読

フィンガープリント

「Effects of ion implantation and thermal annealing on the photoluminescence in amorphous silicon nitride films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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