Electrical properties in silicon oxynitride and silicon nitride prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Hidefumi Sato*, Hiromitsu Kato, Yoshimichi Ohki, Kwang Soo Seol, Takashi Noma

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フィンガープリント

「Electrical properties in silicon oxynitride and silicon nitride prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds