Electrodeposition of a Copper-Tellurium Compound under Diffusion-Limiting Control

Takahiro Ishizaki*, Daisuke Yata, Akio Fuwa

*この研究の対応する著者

    研究成果: Article査読

    15 被引用数 (Scopus)

    フィンガープリント

    「Electrodeposition of a Copper-Tellurium Compound under Diffusion-Limiting Control」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Engineering & Materials Science

    Physics & Astronomy

    Chemical Compounds