Erratum: Oxidized Si terminated diamond and its MOSFET operation with SiO2gate insulator (Applied Physics Letters (2020) 116 (212103) DOI: 10.1063/1.5143982)

Wenxi Fei, Te Bi, Masayuki Iwataki, Shoichiro Imanishi, Hiroshi Kawarada*

*この研究の対応する著者

研究成果: Comment/debate査読

フィンガープリント

「Erratum: Oxidized Si terminated diamond and its MOSFET operation with SiO<sub>2</sub>gate insulator (Applied Physics Letters (2020) 116 (212103) DOI: 10.1063/1.5143982)」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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