Evaluation of inverse tangent phase mask in wavefront coding

Masaya Takahashi, Shinichi Komatsu

    研究成果: Conference contribution

    抄録

    An inverse tangential phase mask (ITPM) is potentially effective for extending the depth of field in the wavefront coding method. However, its characteristics have not been reported in detail. In this study, we obtained the ITPM profile function and confirmed that the optimized ITPM is more effective than a cubic phase mask (CPM) in several respects.

    本文言語English
    ホスト出版物のタイトル22nd Microoptics Conference, MOC 2017
    出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
    ページ158-159
    ページ数2
    2017-November
    ISBN(電子版)9784863486096
    DOI
    出版ステータスPublished - 2018 1 2
    イベント22nd Microoptics Conference, MOC 2017 - Tokyo, Japan
    継続期間: 2017 11 192017 11 22

    Other

    Other22nd Microoptics Conference, MOC 2017
    国/地域Japan
    CityTokyo
    Period17/11/1917/11/22

    ASJC Scopus subject areas

    • 原子分子物理学および光学
    • 電子材料、光学材料、および磁性材料

    フィンガープリント

    「Evaluation of inverse tangent phase mask in wavefront coding」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル