Evaluation of lasing temperature characteristics of 1550nm QD-based-LDs by IID-QDI technique with ar and b ions and high temperature stability

A. Matsumoto*, S. Isawa, R. Kaneko, K. Akahane, T. Umezawa, Y. Matsushima, K. Utaka

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference contribution

抄録

We evaluated temperature characteristics of QD-based-LDs by ion-implantation-induced-disordering quantum-dot intermixing technique with Ar and B ions, and demonstrated high temperature stability with a characteristic temperature of 284 K and a wavelength shift of 0.15 nm/°C.

本文言語English
ホスト出版物のタイトルCLEO
ホスト出版物のサブタイトルApplications and Technology, CLEO_AT 2020
出版社OSA - The Optical Society
ISBN(電子版)9781557528209
DOI
出版ステータスPublished - 2020
イベントCLEO: Applications and Technology, CLEO_AT 2020 - Washington, United States
継続期間: 2020 5月 102020 5月 15

出版物シリーズ

名前Optics InfoBase Conference Papers
Part F181-CLEO-AT 2020

Conference

ConferenceCLEO: Applications and Technology, CLEO_AT 2020
国/地域United States
CityWashington
Period20/5/1020/5/15

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 材料力学

フィンガープリント

「Evaluation of lasing temperature characteristics of 1550nm QD-based-LDs by IID-QDI technique with ar and b ions and high temperature stability」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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