Extendibility of proximity x-ray lithography to 25 nm and below

Eijiro Toyota*, Masakazu Washio

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抄録

A procedure to extend the limit of proximity x-ray lithography (PXL) by changing the exposure methods is proposed. In particular, it is shown that PXL can be used at 25 nm and most probably 18 nm design rule by changing the exposure methods corresponding to the gap limit by steppers. The same light source and facility layout can be used throughout the full generations of PXL.

本文言語English
ページ(範囲)2979-2983
ページ数5
ジャーナルJournal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
20
6
DOI
出版ステータスPublished - 2002 11

ASJC Scopus subject areas

  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Extendibility of proximity x-ray lithography to 25 nm and below」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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