Fabrication and evaluation of Bragg gratings on optimally designed silicon-on-insulator rib waveguides using electron-beam lithography

Zhigang Wu*, Weigang Zhang, Zhi Wang, Guiyun Kai, Shuzhong Yuan, Xiaoyi Dong, K. Utaka, Y. Wada

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抄録

The fabrication of Bragg gratings on silicon-on-insulator (SOI) rib waveguides using electron-beam lithography is presented. The grating waveguide is optimally designed for actual photonic integration. Experimental and theoretical evaluations of the Bragg grating are demonstrated. By thinning the SOI device layer and deeply etching the Bragg grating, a large grating coupling coefficient of 30 cm-1 is obtained.

本文言語English
ページ(範囲)1347-1350
ページ数4
ジャーナルPan Tao Ti Hsueh Pao/Chinese Journal of Semiconductors
27
8
出版ステータスPublished - 2006 8月

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学
  • 材料化学

フィンガープリント

「Fabrication and evaluation of Bragg gratings on optimally designed silicon-on-insulator rib waveguides using electron-beam lithography」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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