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研究成果
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FABRICATION OF a-Si: H THIN FILMS BY A DOUBLE TUBED COAXIAL-LINE TYPE MICROWAVE PLASMA CVD SYSTEM.
Isamu Kato
*
, Motoyasu Yano, Yusuke Kohyama
*
この研究の対応する著者
早稲田大学
研究成果
:
Article
›
査読
1
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「FABRICATION OF a-Si: H THIN FILMS BY A DOUBLE TUBED COAXIAL-LINE TYPE MICROWAVE PLASMA CVD SYSTEM.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Plasma CVD
100%
Thin films
52%
Microwaves
48%
Band structure
38%
Deposition rates
35%
Energy gap
31%
Plasmas
25%
Gas discharge tubes
22%
Substrates
19%
Boundary layers
12%
Fabrication
10%
Physics & Astronomy
vapor deposition
42%
microwaves
37%
thin films
28%
energy bands
25%
luminescence
20%
gas discharge tubes
17%
bombardment
12%
boundary layers
11%
fabrication
8%
Chemical Compounds
Plasma Chemical Vapour Deposition
74%
Microwave
44%
Electronic Band Structure
27%
Band Gap
20%
Plasma
17%