Fabrication of nano/microstructures in SiO2 and TiO2 by swift ions

K. Awazu*, M. Fujimaki, S. Ishii, K. Shima, K. Nomura, Yoshimichi Ohki

*この研究の対応する著者

    研究成果: Conference contribution

    抄録

    The authors introduce work on 2D and 3D nano/microfabrication with MeV ion beam irradiation on a-SiO2 and rutile single crystal TiO2. The electronic stopping of the ions is responsible for the track formation. The latent tracks atomic structure and enhanced etch rate are identified.

    本文言語English
    ホスト出版物のタイトル2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002
    出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
    ページ68-69
    ページ数2
    ISBN(印刷版)4891140313, 9784891140311
    DOI
    出版ステータスPublished - 2002
    イベントInternational Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002 - Tokyo, Japan
    継続期間: 2002 11 62002 11 8

    Other

    OtherInternational Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2002
    国/地域Japan
    CityTokyo
    Period02/11/602/11/8

    ASJC Scopus subject areas

    • ハードウェアとアーキテクチャ
    • 電子工学および電気工学

    フィンガープリント

    「Fabrication of nano/microstructures in SiO<sub>2</sub> and TiO<sub>2</sub> by swift ions」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル