Fabrication of SiN films at low temperature by RF biased coaxial-line microwave plasma CVD

Yoshinori Morita*, Isamu Kato, Tatsuji Nakajima

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フィンガープリント

「Fabrication of SiN films at low temperature by RF biased coaxial-line microwave plasma CVD」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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