FABRICATION OF SiN FILMS BY DOUBLE TUBED COAXIAL LINE TYPE MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION.

Yukihiro Kiyota*, Kouji Numada, Isamu Kato

*この研究の対応する著者

研究成果

1 被引用数 (Scopus)

抄録

We have fabricated SiN films with stoichiometric composition by double tubed coaxial line type microwave plasma chemical vapor deposition and have discussed the effects of the microwave power on the film qualities.

本文言語English
ホスト出版物のタイトルTransactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, Section E (
ページ334-335
ページ数2
E70
4
出版ステータスPublished - 1987 4
イベントPap from the 1987 Natl Conv IEICE - Tokyo, Jpn
継続期間: 1987 3 261987 3 29

Other

OtherPap from the 1987 Natl Conv IEICE
CityTokyo, Jpn
Period87/3/2687/3/29

ASJC Scopus subject areas

  • 工学(全般)

フィンガープリント

「FABRICATION OF SiN FILMS BY DOUBLE TUBED COAXIAL LINE TYPE MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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