Fabrication of ZnO channel waveguides for nonlinear optical applications

Edgar Yoshio Morales Teraoka, Tomohiro Kita, Atsushi Tsukazaki, Masashi Kawasaki, Hirohito Yamada

研究成果: Conference contribution

抄録

We present a fabrication procedure for ZnO channel waveguides intended for nonlinear optical applications. Ar ion milling was used to etch the single crystal thin film samples, and the effects of bias power, chamber pressure and Ar flow rate were investigated, finding optimal parameters for waveguide fabrication. The effect of sidewall roughness was estimated by comparing the results of cut-back measurements and an analytical model. We show an easy and effective method for the fabrication of ZnO channel waveguides.

本文言語English
ホスト出版物のタイトルOxide-Based Materials and Devices II
DOI
出版ステータスPublished - 2011
外部発表はい
イベントOxide-Based Materials and Devices II - San Francisco, CA, United States
継続期間: 2011 1 232011 1 26

出版物シリーズ

名前Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
7940
ISSN(印刷版)0277-786X

Other

OtherOxide-Based Materials and Devices II
国/地域United States
CitySan Francisco, CA
Period11/1/2311/1/26

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • コンピュータ サイエンスの応用
  • 応用数学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Fabrication of ZnO channel waveguides for nonlinear optical applications」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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