Fast etching phenomenon of plasma-silicon nitride films over substrate steps

Atsushi Hiraiwa, Kiichiro Mukai, Seiki Harada, Takeo Yoshimi, Satoru Itoh

研究成果: Article

元の言語English
ページ(範囲)19-24
ページ数6
ジャーナルJapanese Journal of Applied Physics
18
発行部数1
DOI
出版物ステータスPublished - 1979
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