Fast etching phenomenon of plasma-silicon nitride films over substrate steps

Atsushi Hiraiwa, Kiichiro Mukai, Seiki Harada, Takeo Yoshimi, Satoru Itoh

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フィンガープリント

「Fast etching phenomenon of plasma-silicon nitride films over substrate steps」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。