Fast etching phenomenon of plasma-silicon nitride films over substrate steps

Atsushi Hiraiwa, Kiichiro Mukai, Seiki Harada, Takeo Yoshimi, Satoru Itoh

研究成果: Article査読

フィンガープリント

「Fast etching phenomenon of plasma-silicon nitride films over substrate steps」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。