High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation

Y. Zhang*, T. Katoh, M. Washio, H. Yamada, S. Hamada

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フィンガープリント

「High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy