High quality gate dielectric film on poly-silicon grown at room temperature using UV light excited ozone

N. Kameda, T. Nishiguchi, Y. Morikawa, M. Kekura, H. Nonaka, S. Ichimura

研究成果: Article査読

18 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「High quality gate dielectric film on poly-silicon grown at room temperature using UV light excited ozone」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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