Influence of epitaxy on the surface conduction of diamond film

M. Kasu*, M. Kubovic, A. Aleksov, N. Teofilov, Y. Taniyasu, R. Sauer, E. Kohn, T. Makimoto, N. Kobayashi

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抄録

The influence of the crystalline and surface properties of diamond homoepitaxial layers on device properties in H-terminated surface-channel diamond field effect transistors (FETs) is investigated. Crystalline defects inside the layers result in gate current leakage in FET DC operation. We confirmed incorporation of boron acceptors inside the layers. Their residual acceptors result in buffer leakage in DC operation, but do not affect RF characteristics much. Adsorbates from the environment change the concentration of the surface holes generated by the H-termination.

本文言語English
ページ(範囲)226-232
ページ数7
ジャーナルDiamond and Related Materials
13
2
DOI
出版ステータスPublished - 2004 2月
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