Low-temperature oxidation of silicon using UV-light-excited ozone

Aki Tosaka*, Tetsuya Nishiguchi, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura

*この研究の対応する著者

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フィンガープリント

「Low-temperature oxidation of silicon using UV-light-excited ozone」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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