Low temperature treatment of the (001) ZnTe substrate surface with the assist of atomic hydrogen

K. Tsutsumi, H. Terakado, M. Enami, M. Kobayashi*

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抄録

The use of atomic hydrogen for the low temperature treatment of ZnTe substrate surface was discussed. The hydrogen treatment at 100°C removed the surface oxide of the compound prior to its nucleation. The reconstructed surface was achieved at 230°C through annealing and the nucleation was also confirmed.

本文言語English
ページ(範囲)1959-1962
ページ数4
ジャーナルJournal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
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出版ステータスPublished - 2003 7月 1

ASJC Scopus subject areas

  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Low temperature treatment of the (001) ZnTe substrate surface with the assist of atomic hydrogen」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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