Novel pathways for elimination of chlorine atoms from growing Si(100) surfaces in CVD reactors

Nílson Kunioshi*, Sho Hagino, Akio Fuwa, Katsunori Yamaguchi

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研究成果: Article査読

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フィンガープリント

「Novel pathways for elimination of chlorine atoms from growing Si(100) surfaces in CVD reactors」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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