Novel polysilicon source/drain transistor with self-aligned silicidation.

M. Shimizu*, M. Inuishi, H. Miyatake, H. Morita, K. Tsukamoto, Y. Akasaka

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フィンガープリント

「Novel polysilicon source/drain transistor with self-aligned silicidation.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science