Observation of electron beam damage in thin-film SiO2 on Si with scanning Auger electron microscope

S. Ichimura*, R. Shimizu

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抄録

Electron beam damage to thin-film SiO2 was observed with a scanning Auger electron microscope. After a certain degree of electron beam exposure, changes in both the surface topography and chemical composition were investigated. The result suggested that there is a close relationship between the beam damage and the dissipation of incident energy in thin-film SiO 2.

本文言語English
ページ(範囲)6020-6022
ページ数3
ジャーナルJournal of Applied Physics
50
9
DOI
出版ステータスPublished - 1979
外部発表はい

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  • 物理学および天文学(全般)

フィンガープリント

「Observation of electron beam damage in thin-film SiO<sub>2</sub> on Si with scanning Auger electron microscope」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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