Opportunity of single atom control for quantum processing in silicon and diamond

Takahiro Shinada, Prati Enrico, Syuto Tamura, Takashi Tanii, Tokuyuki Teraji, Shinobu Onoda, Takeshi Ohshima, Liam P. McGuinness, Lachlan Rogers, Boris Naydenov, Fedor Jelezko, Junichi Isoya

研究成果: Conference contribution

4 被引用数 (Scopus)

抄録

Future CMOS will require the placement of dopants in a predetermined location, namely, a single atom control. Deterministic doping method, i.e. single-ion implantation, realizes ordered arrays of single-atoms in silicon, diamond and other materials, which might provide opportunities to single-dopant transport or single-photon source beneficial to quantum processing.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2014 Silicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2014
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN(電子版)9781479956777
DOI
出版ステータスPublished - 2015 12 4
イベントSilicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2014 - Honolulu, United States
継続期間: 2014 6 82014 6 9

出版物シリーズ

名前2014 Silicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2014

Other

OtherSilicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2014
国/地域United States
CityHonolulu
Period14/6/814/6/9

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Opportunity of single atom control for quantum processing in silicon and diamond」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル