Oxidation properties of silicon nitride thin films fabricated by double tubed coaxial line type microwave plasma chemical vapor deposition

Isamu Kato*, Kouji Numada, Yukihiro Kiyota

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フィンガープリント

「Oxidation properties of silicon nitride thin films fabricated by double tubed coaxial line type microwave plasma chemical vapor deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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