Patterning of DNA nanostructures on silicon surface by electron beam lithography of self-assembled monolayer

Guo Jun Zhang*, Takashi Tanii, Takashi Funatsu, Iwao Ohdomari

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抄録

Nanoscale patterns of modified oligonucleotides are produced on octadecyltrimethoxysilane self-assembled monolayers at a silicon surface by electron beam lithography. DNA structures with feature sizes of the order of 250 nm were detected by epi-fluorescence microscopy.

本文言語English
ページ(範囲)786-787
ページ数2
ジャーナルChemical Communications
4
7
DOI
出版ステータスPublished - 2004 1月 1

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「Patterning of DNA nanostructures on silicon surface by electron beam lithography of self-assembled monolayer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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