Photoemission study of the SiO2 /Si interface structure of thin oxide films on Si(100), (111), and (110) surfaces

Michio Niwano, Hitoshi Katakura, Yuki Takeda, Yuji Takakuwa, Nobuo Miyamoto, Atsushi Hiraiwa, Kunihiro Yaqi

研究成果: Article査読

72 被引用数 (Scopus)
本文言語English
ページ(範囲)195-200
ページ数6
ジャーナルJournal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
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DOI
出版ステータスPublished - 1991 3 1
外部発表はい

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  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜

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