Plasma-enhanced chemical vapor deposition and characterization of high-permittivity hafnium and zirconium silicate films

Hiromitsu Kato, Tomohiro Nango, Takeshi Miyagawa, Takahiro Katagiri, Kwang Soo Seol, Yoshimichi Ohki

研究成果: Article査読

138 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Plasma-enhanced chemical vapor deposition and characterization of high-permittivity hafnium and zirconium silicate films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy